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137-2866-5346單晶硅太陽電池PECVD設備鍍膜均勻性的細節因素可從以下5個方面改善
1.適當的降低鍍膜過程中反應壓力有助于改善鍍膜均勻性，
2.適當增加工藝沉積前的恒溫時間、控制絨面的均勻性同樣有助于改善鍍膜均勻性，
3.腔體內部及特氣進氣孔的清潔保養及時性同樣可提升單晶硅太陽電池PECVD鍍膜均勻性，
4.降低石墨舟表面粗糙度同樣可改善鍍膜均勻性。
5.選擇在爐腔壓力1200mtorr、恒溫時間5min、降低石墨舟表面粗糙度，搭配絨面差異小的硅片，
做好這些對鍍膜均勻性改善可以有非常好的效果
PECVD鍍膜技術原理：是利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體，氣體經一系列化學反應和等離子體反應在樣品表面形成固態薄膜
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